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ASML与蔡司联合发布：下一代Hyper NA光刻机将在10年内问世

据CNA报道，ASML与蔡司在同行评审论文中披露Hyper NA光刻机路线图，数值孔径超0.75，分辨率达5纳米以下，预计2036年量产。了解新一代极紫外光刻技术对摩尔定律、芯片成本和地缘政治的影响。